光谷企業(yè)近日成功研發(fā)出全國首款完全自主可控的OPC軟件。OPC軟件，即“光學鄰近校正軟件”，是芯片設計工具EDA的一種，沒有它，即使用了光刻機，也造不出芯片。
記者尚大原：“所謂光刻，就是把這個黑色版圖上的電路圖形通過光學成像的方式呈現(xiàn)在這塊紅色的硅片上，就像是照相機照相片，但是隨著芯片關鍵尺寸從90nm到32nm不斷降低，相片上的圖形會不可避免地出現(xiàn)失真，而OPC軟件就是避免這種失真?！?/p>
在180納米以下芯片的光刻前，都必須采用OPC軟件進行優(yōu)化。目前，這一軟件市場由三家美國公司壟斷。
華中科技大學教授、宇微光學軟件有限公司創(chuàng)始人劉世元：“可以這么講，沒有OPC的話，即使有最好的光刻機也發(fā)揮不了作用，我們自主可控，最核心的就是（掌握）物理算法?！?/p>
此次研發(fā)出OPC軟件的光谷企業(yè)宇微光學，創(chuàng)始人劉世元來自華中科技大學，師從楊叔子院士。專注集成電路計算光刻的基礎研究20余年。
華中科技大學教授、宇微光學軟件有限公司創(chuàng)始人劉世元：“20年前參加國家的重大專項，100納米分辨率光刻機的研制，回到學校以后就一直在從事計算光刻這方面的研究工作，堅持做基礎的研究，做關鍵技術的攻關?！?/p>
十多年來，劉世元團隊堅持最底層的代碼一行行敲、最基礎的公式一個個算，終于打造出自主可控的OPC軟件算法。目前，企業(yè)正在做集成與測試，并到芯片生產廠商進行驗證，孵化企業(yè)的武漢光電工研院也將提供技術轉化服務。
武漢光電工業(yè)技術研究院有限公司總經理韓道：“搭建一個產業(yè)生態(tài)，讓我們更多解決了卡脖子的、擁有核心技術的工具，能夠被客戶所接受，并且穩(wěn)定地升級，穩(wěn)定地使用。”
